日本沖繩科學技術大學院大學設計了一種新型極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業(yè)的標準界限。這項技術能讓光刻設備使用較小的EUV光源，降低了成本，同時提升了機器的可靠性并延長了其使用壽命。新設計使得功耗降低至傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，有助于推動半導體行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。
（科技日報記者 張夢然 趙衛(wèi)華）
日本沖繩科學技術大學院大學設計了一種新型極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業(yè)的標準界限。這項技術能讓光刻設備使用較小的EUV光源，降低了成本，同時提升了機器的可靠性并延長了其使用壽命。新設計使得功耗降低至傳統(tǒng)EUV光刻機的十分之一，有助于推動半導體行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。
（科技日報記者 張夢然 趙衛(wèi)華）
